日本学術振興会・未来開拓学術研究推進事業

「次世代プロセス技術」

　

　

日　時：1999年9月3日(金)

場　所：虎ノ門パストラル新館

　　　　東京都港区虎ノ門4-4-1　
　　　　地下鉄日比谷線「神谷町駅」徒歩4分
　　　　地下鉄銀座線「虎ノ門駅」徒歩8分

プログラム：

• 開会の辞
• 「次世代プロセス技術」研究の展望　　
• 超臨界流体中の反応および分離のプロセス構築へ向けた基礎過程解析
• 材料プロセスにおける異常成長の制御
• 量子ドットのウエハスケール形成プロセス
• プロセス工業のための環境・安全評価の技術情報基盤の構築
• ”特別招待講演”アトムテクノロジーと次世代プロセス
• 異種材料の可逆的インターコネクション
• 低温プラズマの大面積・高密度化生成と制御，及びその工業化への応用
• 多機能コンポジット作製を目的としたプロセスの構築
• 構造用エコマテリアル創製のためのメゾスコピック材料プロセス技術

  閉会の辞

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開会の辞

科学技術基本計画などを受けて、国の研究支援の増大の一環として、未来開拓学術研究推進事業が発足した。日本学術振興会によりその企画運用がなされているが、研究資金が出資金の形をとっているがゆえに、当然見返りとしての成果も期待されることになる。理工領域の8つの分野のひとつとして「次世代プロセス技術」が発足したが、似た名称の「高度プロセス」が原子、分子のオーダーに注目したミクロなプロセスを追及するのに対して、本分野はマクロな観点からのプロセス技術を注目することになっている。このような観点より、対象となる材料は有機、無機、半導体に限らず、熱化学反応に基づく材料プロセスを対象とし、工業化をも念頭においた計画を立て、初年度(1996年)6つのプロジェクトがスタートしている。1997年度に新たに2つのプロジェクトを加え、現在8つのプロジェクトが各々5年を念頭において、鋭意研究を進めている状況にある。本公開シンポジウムでは、田中一室・産業技術融合領域研究所・アトムテクノロジー研究体プロジェクトリーダーによる「アトムテクノロジーと次世代プロセス」の特別講演をお願いするとともに、8つの本プロジェクトの研究推進の発表を行い、参加者との討論およびご批判をいただけることを期待している。時期的には、初年度のプロジェクトを発足してまだ2カ年も経ていないという現状をご理解いただきっっも、その目指す方向、そして基礎的な確実さから応用の可能性について充分なる討論がされることを期待する次第である。最後に、本プロジェクト遂行にあたりご支援をいただいた文部省および日本学術振興会の各位に感謝する。

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