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近接場光プローブにより波長の1/10以下の微少なスポットが形成できるが、強度は微弱であり、プローブ先端と記録面の間隔を数十ナノメートル以下に保つ必要がある。このような制約の下での超高密度の記録・再生方式を、実験とシミュレーションの両面から研究している。
近接場光記録に適した記録材料に関するデータはほとんどない。このため、先ず相変化記録材料により研究を開始し、今後さらに光磁気や有機系の記録材料についても検討を進める。
実用的な記録システムへの応用を目指し、平面基盤上に近接場光を出射・受光する開口を形成し、浮上ヘッド方式とするための基礎となる平面開口アレイの作製プロセスを検討している。
ナノメートル制御光ディスクシステム（応用産技プロジェクト）の一環として、微細記録ピット評価への近接場光プローブ技術の応用を検討している。
近接場プローブで相変化記録マークを観察し、高コントラストで検出することができた。このマークの凹凸変化は2nm以下であるが、その屈折率の変化を検出している。
ディスクの中にアンチモンのマスク層を形成すれば、アンチモンが強度の大きな光の照射を受けている間だけ透明になるため、ディスクにレーザ光を照射すると、スポット径の1/10程度の透明部分が形成され、これが近接場出射開口として働く。このため、波長680nmのレーザー光により100nm以下の微少マークの記録・読み出しが可能となった。この構造を、スーパーレンズ（Super-RENS : Super-Resolution Near-Field Structure=超解像近接場構造）と名付けた。
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近接場光記録方式