National Institute of Advanced Industrial Science and Technology (AIST) This page is a page of the former research institute. We stopped updating on March 31.2001.
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2.2 試験研究成果

2.2.2 工業所有権

1)出 願

(1)外国特許出願(0件)
(2)国内特許出願(9件,*共同出願)

出願番号・・*6-220240
出願年月日・・6. 9.14
発明の名称・・微細加工方法
発明者(当所職員以外)・・山田 啓文,(山本 伸一)

出願番号・・*6-271566
出願年月日・・6.11. 4
発明の名称・・無粒界型マンガン酸化物系結晶体及びスイッチング型磁気抵抗素子”発明者(当所職員以外)・・十倉 好紀,(富岡 泰秀)

出願番号・・*6-271567
出願年月日・・ 6.11. 4
発明の名称・・無粒界型マンガン酸化物系結晶体,その製造方法及びメモリースイッチング型磁
発明者(当所職員以外)・・十倉 好紀,(朝光 敦,守友 浩)

出願番号・・*6-292199
出願年月日・・ 6.11. 1
発明の名称・・ポリマーの相分離を利用した表面加工法
発明者(当所職員以外)・・水谷  亘,(本松 誠,ラリー エイ)

出願番号・・*7-5757
出願年月日・・ 7. 1.18
発明の名称・・OH基炭酸水酸アパタイトの製造法
発明者(当所職員以外)・・伊藤 敦夫,(堤 貞夫,渡辺 悦子)

出願番号・・*7-57744
出願年月日・・7. 3.16
発明の名称・・層構造マンガン酸化物系単結晶体及びその製造方法
発明者(当所職員以外)・・十倉 好紀,(守友 浩,朝光 敦, 桑原 英樹)

出願番号・・7-82044
出願年月日・・7. 3.15
発明の名称・・シリコン表面の処理方法
発明者(当所職員以外)・・森田 行則,徳本 洋志

出願番号・・7-90307
出願年月日・・7. 3.23
発明の名称・・フィルタ分光器
発明者(当所職員以外)・・二又 政之

出願番号・・7-91960
出願年月日・・7. 3.24
発明の名称・・微細パターン形成方法
発明者(当所職員以外)・・多田 哲也,金山 敏彦

(3)国内実用新案出願(0件)

2)取 得

(1)外国特許権(0件)
(2)国内特許権(0件)
(3)国内実用新案出願(0件)

3)実施許諾(0件)